フォトマスク洗浄装置

基本情報

LSIの高性能化に伴い、フォトマスク／レチクルは、より高精細 ・ 高精度である事を要求されています。当社の洗浄装置はこれら製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。

機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備、ワーク回転の遠心力とオゾン水、アンモニア添加水素水吐出により、検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能なユニットです。各洗浄液を切り換えて洗浄することにより、ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツールです。

RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
SPM → オゾン水
　・完全室温洗浄の実現(高温プロセス不要)
　・マスク上の薬液残留量減少
　・廃液処理の安全化(ISO14000対策)

SC-1 → アンモニア添加水素水
　・MoSiハーフトーンマスクのエッチング防止

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

用途／実績例

【用途】
　・フォトマスク/レチクル/マスクブランクスメーカーでの製品洗浄
　・半導体デバイスメーカーの露光前レチクル洗浄
　・半導体デバイスメーカー内製マスクライン(マスクショップ)での製品洗浄
【納入実績】
　・国内外マスクブランクス/フォトマスク/レチクルメーカー
　・国内外デバイスメーカー

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