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フィルター

クアーズテック社のフィルター製品となります。 セラミックフィルターをエレメントに採用した高純度ガス共有系で使用する「CEPURE® インライン・ガスフィルター」と、圧力バッファー効果を利用した真空破壊用の高性能ディフューザー「真空破壊用ブレイクフィルター™」をご紹介させて頂きます。

真空破壊用ブレイクフィルター

  • 真空破壊用ブレイクフィルター

真空破壊用ブレイクフィルター「真空装置のパーティクルを低減」

  • 半導体・工業用部材
  • フィルター

真空装置のスループット向上、パーティクルの低減・防止にお試しください!

ブレイクフィルター™は、セラミック多孔体のもつ非常に微細な細孔を利用し、圧力バッファー効果を利用した真空破壊用の高性能ディフューザーです。

【特徴】
■スループットの向上
 ロードロック室の窒素ガス吹き出し口にブレイクフィルター™ を取り付けることにより、スローベントが不要になり、スループットの向上が図れます。
■パーティクルの舞い上がり防止
 パーティクルの低減にも優れた効果を発揮し、突発パーティクルの防止にも多大な効果があります
■ベント時間短縮
■高耐食性

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

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基本情報

クアーズテック株式会社と東京エレクトロン株式会社との共同開発により製品化されたブレイクフィルター™は、セラミック多孔体のもつ非常に微細な細孔を利用し、圧力バッファー効果を利用した真空破壊用の高性能ディフューザーです。
従来、ロードロック室の真空破壊にはパーティクルの舞い上がりを防ぐため窒素ガスをゆっくり導入するスローベントが用いられてきました。
ロードロック室の窒素ガス吹き出し口にブレイクフィルター™ を取り付けることにより、そのようなスローベントが不要になり、スループットの向上が図れます。
同時に、パーティクルの低減にも優れた効果を発揮し、突発パーティクルの防止にも多大な効果があります。また、スローベントとの併用で、より大きなパーティクル低減効果を期待することも可能です。

【仕様】
材料: アルミナ多孔体/シリカ多孔体

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

用途/実績例

真空チャンバー用ディフューザー

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CEPURE

  • CEPURE
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  • CEPURE_STM

インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」

  • 半導体・工業用部材
  • フィルター

圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルターに求められる特性面も優れています!高純度アルミナを使用

クアーズテック社のインライン・ガスフィルター『CEPURE®』に採用したエレメントは、耐食性に優れた99.9%以上の高純度アルミナで、均一にコントロールされた2層もしくは3層からなる微細な細孔を有しています。
幾何学的に圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性などガスフィルターに求められる特性面においても非常に優れており、理想的なフィルターメディアです。

【特徴】
 ・優れたガス置換特性
 ・高耐食性
【仕様】
 材料:アルミナ多孔体(エレメント部)/SUS/ニッケル/PTFE
【用途】
 各種半導体プロセス用インラインガスフィルター

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

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基本情報

クアーズテック株式会社は、1988年CEPURE®インライン・ガスフィルターの販売開始以来、一貫して半導体製造装置用ガスラインの高純度化、高清浄化に取り組んできました。
第一世代としては六角マルチチャンネルタイプのエレメントを採用した「Mシリーズ」を、そして1992年には第二世代として除粒子性能を維持しつつ、ガス置換特性を向上させた「TMシリーズ」を市場に送りだしました。
現在、CEPURE®シリーズは、より高いガス置換特性を追及し、かつ一段とコンパクト化を図った第三世代の「STMシリーズ」に進化しており、ユーザーの皆様から高い評価を得ています。
また、近年、半導体製造装置業界で主流となりつつある集積型ガスパネルに対応すると同時に、多様化するユーザーニーズに対応すべく、各種フィルター応用製品の開発を進めています。

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

用途/実績例

【用途】
各種半導体プロセス用インラインガスフィルター

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