ヒーター
各種半導体製造装置において、それぞれのプロセス(酸化・拡散・CVD・PVD等)で求められる熱処理の需要に対して、各種メーカーの豊富なラインアップでお答えします。 また、連続炉・バッチ炉等に使用するヒーターも取扱いしております。 お客様のご希望条件により、多様な材質、構造、温度域で対応・提案をさせて頂きます。
SiCヒーター
SiCヒーター(炭化ケイ素発熱体)「高温使用が可能」
- 半導体・工業用部材
- ヒーター
800℃～1600℃での高温使用が可能！ガラス製造、熱処理等、電気炉用ヒーター。既存の設備へも置き換え・代替可能！
SiCヒーター(炭化ケイ素発熱体)は、800～1600℃までの幅広い温度域に対応している電気炉用の発熱体です。
炭化ケイ素を主原料としており、金属ヒーターに比べて耐酸化性や耐熱性、耐食性に優れており、単位面積あたりの発熱量が大きいことから短時間での昇温が可能です。
【SiCヒーターの特徴】
■短時間での昇温が可能
発熱量が大きいことから短時間での昇温が可能
■高寿命
繰り返し使用が可能な為、高寿命
■特注品・カスタマイズ可能
お客様の炉の仕様に合わせた設計が可能 (コーティングも可)
■幅広い分野の電気炉に採用
金属工業、電子工業、化学工業、窯業、開発試験用途、等
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
炭化ケイ素を主原料としており、金属ヒーターに比べて耐酸化性や耐熱性、耐食性に優れており、単位面積あたりの発熱量が大きいことから短時間での昇温が可能です。
【SiCヒーターの特徴】
■短時間での昇温が可能
発熱量が大きいことから短時間での昇温が可能
■高寿命
繰り返し使用が可能な為、高寿命
■特注品・カスタマイズ可能
お客様の炉の仕様に合わせた設計が可能 (コーティングも可)
■幅広い分野の電気炉に採用
金属工業、電子工業、化学工業、窯業、開発試験用途、等
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
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基本情報
SiCヒーター(炭化ケイ素発熱体)は、800～1600℃までの幅広い温度域に対応している電気炉用の発熱体です。SiCヒーターは、炭化ケイ素を主原料としており、金属ヒーターに比べて耐酸化性や耐熱性、耐食性に優れています。
また、単位面積あたりの発熱量が大きいことから短時間での昇温が可能です。
通常の棒状発熱体以外にも、片側端子のUタイプや高温域で使用可能なスパイラル品などのラインナップがあります。
炉内の使用条件や使用環境に耐えられるようにコーティング処理をすることも可能です。
発熱体の抵抗値や寸法（全長、径、発熱長）は、お客様の炉の仕様に合わせることが出来ます。
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
用途／実績例
【SiCヒーターの主な用途】・各種金属の焼入、焼戻、冶金の焼結
・セラミックコンデンサ等の焼成
・ガラスの溶解、焼成、徐冷
・液晶ガラスの熱処理、レンズの熱処理
・石英原料の焼成
・ファインセラミックスの製造
・陶磁器の焼成、磁石の焼成
・電池原料の焼成、蛍光塗料の焼成
・脱脂炉、脱臭炉、ロウ付
・研究、試験炉
【分野】
一般産業、自動車、電気、半導体、医療、ガラス、光学ガラス、鉄鋼、非鉄、リサイクル、研究
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二珪化モリブデンヒーター / Molybdenum Disilicide (MoSi2) Heaters
二珪化モリブデン(MoSi2)ヒーター 最高1800℃使用可能！
- 半導体・工業用部材
- ヒーター
二珪化モリブデンヒーター: 繰り返し使用が可能で高寿命、お客様に合わせた設計が可能
【特徴】
・最高使用温度1800℃まで使用可能 ※約500℃～1800℃。
・高寿命かつ、繰り返し使用が可能です。
・取付取り外しが容易です。
・温度制御がし易く、反応が早い為、炉内の特定の箇所を均等に加熱することが出来ます。
・お客様の炉の仕様に合わせた設計が可能です。
※半導体メーカー、光学メーカーに実績あり
※詳しくはお問い合わせください。
・最高使用温度1800℃まで使用可能 ※約500℃～1800℃。
・高寿命かつ、繰り返し使用が可能です。
・取付取り外しが容易です。
・温度制御がし易く、反応が早い為、炉内の特定の箇所を均等に加熱することが出来ます。
・お客様の炉の仕様に合わせた設計が可能です。
※半導体メーカー、光学メーカーに実績あり
※詳しくはお問い合わせください。
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基本情報
・二珪化モリブデン(MoSi2)ヒーターは大気中で最高1800℃までの使用が可能です。・連続炉でもバッチ炉でも使用可能です。
・金属、電子、化学、窯業、開発試験など幅広い分野の電気炉にご使用頂いております。
※詳しくはお問い合わせください。
用途／実績例
【用途】・各種金属の焼入、焼戻、冶金の焼結
・セラミックコンデンサ等の焼成
・ガラスの溶解、焼成、徐冷
・液晶ガラスの熱処理、レンズの熱処理
・石英原料の焼成
・ファインセラミックスの製造
・陶磁器の焼成、磁石の焼成
・電池原料の焼成、蛍光塗料の焼成
・脱脂炉、脱臭炉、ロウ付
・研究、試験炉
【分野】
一般産業、自動車、電気、半導体、医療、ガラス、光学ガラス、鉄鋼、非鉄、リサイクル、研究
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管状炉
管状炉(カンタルヒーター)「高温炉用」「各種形状に対応」
- 半導体・工業用部材
- ヒーター
半導体熱処理や工業用熱処理まで、各種形状、各種発熱体に対応、高温炉に対応可能な管状炉です。
管状炉とは、カンタルワイヤーをコイル状に加工し、断熱材、円筒形の外枠で組み立てたもので、チューブ炉とも呼ばれ、その名の通り管（筒）状の電気炉で工業炉の中でも一角を担う存在です。
【特徴】
■精密な温度制御や温度勾配が可能
・炉内が筒状なので温度精度に優れ、均一加熱に適した電気炉でゾーン制御(※)を行うことにより、
精密な温度制御や温度勾配が可能な電気炉となります。
■御要望の電気炉を一台から製作可能
・小型精密管状炉に使用している小口径から半導体製造装置（拡散炉）や工業用に使用される大口径
のものまで様々な管状炉を製作しています。
■カンタル(高温使用できる合金)を耐熱材料や耐熱金具としても加工致します。
(※)ゾーン制御 炉内において部分的に温度を制御する事で温度精度を向上させる技術
【仕様】
・発熱体 カンタル AF / A-1 / APM
・最高温度 発熱体 約1400℃（炉内最高 約1300℃）
※詳しくはお問い合わせください。
【特徴】
■精密な温度制御や温度勾配が可能
・炉内が筒状なので温度精度に優れ、均一加熱に適した電気炉でゾーン制御(※)を行うことにより、
精密な温度制御や温度勾配が可能な電気炉となります。
■御要望の電気炉を一台から製作可能
・小型精密管状炉に使用している小口径から半導体製造装置（拡散炉）や工業用に使用される大口径
のものまで様々な管状炉を製作しています。
■カンタル(高温使用できる合金)を耐熱材料や耐熱金具としても加工致します。
(※)ゾーン制御 炉内において部分的に温度を制御する事で温度精度を向上させる技術
【仕様】
・発熱体 カンタル AF / A-1 / APM
・最高温度 発熱体 約1400℃（炉内最高 約1300℃）
※詳しくはお問い合わせください。
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基本情報
カンタルワイヤーをコイル状に加工し、断熱材、円筒形の外枠で組み立てたものが管状炉となります。炉内が筒状なので温度精度に優れ、均一加熱に適した電気炉でゾーン制御(※)を行うことにより、精密な温度制御や温度勾配が可能な電気炉となります。小型精密管状炉に使用している小口径から半導体製造装置（拡散炉）や工業用に使用される大口径のものまで様々な管状炉を製作しています。またカンタルは高温使用できる合金です。カンタルを耐熱材料や耐熱金具として使用したいという御要望にもお応えしております。
※詳しくはお問い合わせください。
用途／実績例
【用途】半導体製造装置から工業・生産ライン、研究開発、温度校正（熱電対校正炉）にて使用
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