その他の部材
SURFCLEAR 100
薄膜用蒸着材料 SURFCLEAR-100 「撥水・撥油」
- 半導体・工業用部材
- その他の部材
世界最高水準の耐摩耗性を持つフッ素コーティング用材料。
・撥水性: 水滴の付着・水ヤケの軽減
・防汚性: 指紋などの付着軽減・ふき取り性向上・性能長期持続
・傷防止性: 滑り性向上による傷発生率の軽減
・低屈折率: 光学特性を妨げにくい低屈折率
・プロセス: SiO2上に蒸着成膜することで最高性能発揮
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基本情報
・接触角: 117°(純水2.5μl)・転落角: 2°(純水30μl) / 9°(純水5μl)
・屈折率: 1.328(550nm)
・推奨膜厚: 16nm
・硬度試験: 6H以上(JIS-K-5600-5-4)
【シリーズ/型番】
・SC-100
・SC-300
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用途/実績例
【用途】・スマートフォンやタブレットなどの滑り性向上による操作性アップ
・眼鏡やサングラス、カメラの光学特性を妨げず指紋ふき取り性向上
・防犯カメラの防汚性向上によるメンテナンス軽減
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HPコート比較 / PHILICFINE HP
薄膜用蒸着材料 PHILICFINE HP「親水コーティング」
- 半導体・工業用部材
- その他の部材
表面などに水が付着した際に、水滴とならずに薄い膜状に濡れ広がる特性。
効果:視野確保、汚れ付着防止
・良好な親水性
・暗所、屋外でも使用可能
・樹脂にも使用可能
・用途に合わせ選択できる製品ラインアップ
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基本情報
HP1, HP2, HP3の3種類から用途によりお選びいただけます。※詳しくはお問い合わせください。
用途/実績例
【用途】・防犯カメラのカバーや車のサイドミラーの雨による視界不良防止
・眼鏡やサングラス、ゴーグルなどの水滴による視界不良防止
・自動ドアなどレーザー受光部分のカバー材へのコーティングにより、水滴による誤作動防止
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CaF2 特徴1
フッ化カルシウム CaF2(通称:蛍石)レンズの色収差を打消す
- 半導体・工業用部材
- その他の部材
レンズの色収差を打ち消す理想の材料
・真空紫外域から赤外域までの幅広い透過波長領域を持つ。
・低分散・異常分散性を示し、他の光学材料との組み合わせで
超色消し(アポクロマート)レンズを構成することが可能。
・耐水性・耐薬品性など、物理的・化学的に安定な結晶材料。
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基本情報
フッ化カルシウム CaF2(通称:蛍石)レンズの色収差を打ち消す理想の材料
・真空紫外域から赤外域までの幅広い透過波長領域を持つ。
・低分散・異常分散性を示し、他の光学材料との組み合わせで超色消し(アポクロマート)レンズを構成することが可能。
・耐水性・耐薬品性など、物理的・化学的に安定な結晶材料。
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用途/実績例
【用途】・デジタル一眼レフ用望遠レンズ
・天体望遠鏡レンズ
・テレビ用レンズ
・紫外顕微鏡
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GLASSUN
溶融シリカ質耐火物(GLASSUN🄬)「低い熱伝導率」
- 半導体・工業用部材
- その他の部材
高純度の溶融ケイ酸質原料を主成分とする耐火物GLASSUN 熱衝撃への強い耐久力、低い熱伝導率が応用範囲の広さを実現
【特徴】
■熱衝撃への強い耐久力
・熱膨張率が極めて小さく急熱急冷による熱衝撃にも非常に強い
・熱伝導率が低い
■化学薬品・溶融金属に対し優れた耐食性
■応用範囲の広い材料
・小形状、大形状、複雑形状、マシニングセンタにて大型製品の精密加工も対応可能
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基本情報
GLASSUN® は高純度の溶融ケイ酸質原料を主成分とする耐火物です。 熱膨張率が極めて小さく急熱急冷による熱衝撃にも非常に強い、熱伝導率が低い、化学薬品・溶融金属に対し優れた耐食性を示すなど、多くの特性をもっています。 また、小形状から大形状まで、さらなる複雑形状、マシニングセンタにて大型製品の精密加工も対応可能で応用範囲の広い材料です。※詳しくはお問い合わせください。
用途/実績例
【用途】・ガラス製造設備向け炉内部材各種
・ガラス成型用型
・搬送用ロール
・炉内隔壁、断熱隔壁他
・電子部品焼成用プレート
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再結晶SiC(HE801)
再結晶SiC (HE801)「最適な表面改質で多くの用途に対応」
- 半導体・工業用部材
- その他の部材
高強度、高熱伝導のSiCを基材とした熱処理用道具材。プラズマ溶射での表面改質により、多くの用途に対応。
焼成物に応じた表面改質(ジルコニア、アルミナ他)で多くの用途に対応致します。
【特徴】
・高強度、高熱伝導のSiCを使用した薄肉・軽量・低熱容量道具材、高速焼成に高相性。
・プラズマ溶射で表面改質(ZrO2,Al2O3,他酸化物)、SiCに適した溶射仕様で耐久性に優れる。
・プレス成形で複雑形状(脚付、抜き、匣)に対応可能、加工・キャスティング品に比較して安価。
【用途】
・MLCC焼成
・インダクタ焼成
・LTCC焼成
・SOFC焼成
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基本情報
セラミック電子部品(MLCC、インダクタ、LTCC、SOFCなど)の焼成(800~1400℃)に使用されるセッター、プレート、ラックなどの炭化ケイ素質(SiC)を基材とする熱処理用道具材。焼成物に応じた表面改質(ジルコニア、アルミナ他)で多くの用途に対応。※詳しくはお問い合わせください。
用途/実績例
【用途】・MLCC焼成
・インダクタ焼成
・LTCC焼成
・SOFC焼成
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